某半导体设备加工制造企业公司因晶圆拆洗环节形成含氨废污水，发电量200吨/天。废污自来水中除氧化还原电位外还富含氟化物和氢化物发生器巨资属，整理困难程度大。本地人尾气直接排放标准规范需求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废气组分及由来 晶圆拆洗废水处理（首要来原）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺程序废气：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值振幅大 CMP抛光废污水：含硅粒状及高锰酸盐指数 除理加工过程程序流程 采用了"化学反应沉积+膜脱离+折点氯化"搭配组合方法： 预治理 ：污泥脱水CaCl2除氟，有效控制pH在7.5-8. 反渗透膜控制系统 ：快速清理0.01μm及以上顆粒物 反渗透设备法浸提 ：将高锰酸盐指数浓缩液至1000mg/L以下 折点氯化 ：透彻管理氯添加量，将氯离子转化成为氦气 亚铁离子传递 ：有保障血本属不合格 然后郊果 氟化物比较稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含量高出测试限 水回收利用率达75% 飞灰形成量以减少40%