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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制做厂座落豫东区域,主耍生產制造8英尺半导晶圆,单日废水处理释股票放量约800吨。在生產制造的过程 中采用大量的盐酸使用晶圆蚀刻,引致废水处理中氟化物氧化还原电位高达独角兽200-300mg/L,远超国释放规则(10mg/L以內)。 废水处理方法部分及来原 废气其主要发源六个关键环节: 晶圆蚀刻环节 :含高氧浓度氟化物(HF)、氯化铵及一些天价属 化学物质机戒打磨(CMP)废水处理 :含nm级硅颗粒物、有机会络合剂 主设备清洁生产废水 :含异丙醇、化学需氧量等充分物 加工处理加工过程流程步骤 适用"无机化学沉定+混泥土沉定+厚度油烟净化器"三级视频进行处理设备: 考试内容一级治理 :添加氯化钙和氢空气氧化钙,产生氟化钙沉积,氟化物清除率达85% 二级考试工作 :“添加PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚丙乙烯酰胺),取除胶体溶液态生态破坏物 二级净化处理 :使用多物料过滤清洁器和几丁质酶炭吸附性,冒水氟化物渗透压稳定性高在8mg/L这 关键点设施是指:pH系統自动调理系統、斜管凝固池、板框带式压滤机(生活污水脱水过滤)。 结果英文效用 工程进行六年监控的数据提示 : 氟化物一般氨水浓度:7.2mg/L(不超过的国家原则) COD祛除率:92% 飞灰含水分率:≤65% 年二手回收氟化钙副產品约150吨,完成资源性化再生利用

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